O chief executive officer (CEO) da Intel, Paul Otellini, confirmou nesta segunda-feira (26/03) que a empresa vai construir uma fábrica de 2,5 bilhões de dólares na China. A planta, que será construída em Dailan, na costa nordeste do país, vai entrar em produção no primeiro semestre de 2010.

A fábrica vai abrigar, no início, a produção de chipsets, reduzindo custos de produção. “Uma das coisas que queremos fazer na China é aprender como se faz produção de custo muito baixo”, disse Otellini em um evento em Pequim.

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Segundo o CEO, os incentivos oferecidos pelo governo chinês foram decisivos para a escolha. A Intel pretende tirar proveito destes incentivos e rodar a planta com máxima eficiência para obter os menores custos de produção, disse o porta-voz Chuck Mulloy.

A construção da fábrica será iniciada no final deste ano. Apesar de todo alarde, a fábrica em Dailan não será a mais avançada da companhia. A licença da Intel é para usar o processo de 90 nanômetros na planta em 2009. A companhia deve tentar uma licença de 65 nanômetros para quando a fábrica entrar em funcionamento em 2010.

O governo norte-americano regula com cuidado a transferência de tecnologia de semicondutores para outros países, como a China, por preocupações com o uso para fins militares.

Ainda neste ano, a Intel começa a produzir em 45 nanômetros e a produção em 32 nanômetros já está prevista para 2009, o que significa que quando entrar em produção comercial a fábrica na China estará três gerações para trás.

Mas as tecnologias mais antigas também têm seu papel a cumprir. Embora a maior parte das fábricas da Intel seja de ponta, algumas delas ainda mantêm tecnologias mais antigas, com medidas em microns ao invés de nanômetros. 

O processo de 1 micron, usado desde 1989 pela Intel, ainda é utilizado hoje para chips embutidos, por exemplo.